奈米表面檢測技術
Scanning Probe Microscopy
簡介
本中心發展奈米表面檢測技術近十年歷史，已建立包括磁學、力學、光學與電學等近十項奈米檢測技術。目前奈米表面檢測技術已提供學術界與產業界技術諮詢與資料分析的服務，作為材料開發、表面性質研究與元件效率提昇等相關研發工作不可或缺的參考依據。
技術能量
磁力顯微術、摩擦力顯微術、力調變顯微術、相變化顯微術、靜電力顯微術、表面電位顯微術、導電性原子力顯微術、高深寬比微奈米結構檢測技術，直式與彎式光纖探針製作技術、反射式與穿透式近場光學顯微術。
規格
- 試片尺寸 ≤ φ 200 mm
- 試片厚度 ≤ 12 mm
- 掃描範圍 ≤ (100 µm ± 100 µm)
- 高度檢測範圍 ≤ 4 µm
- 解析度：原子級
應用領域
- 材料表面性質研究
- 微奈米結構三維分析
- 透明導電薄膜 (ITO、IZO) 區域電性檢測
- 奈米陣列之應用研究
- 近場光學取像及光譜分析
- 線寬小於 50 nm 之奈米線製作
