離子源輔助電子束蒸鍍系統
Electron-Beam Gun Evaporation Method with Ion-Assisted Deposition
簡介
大口徑光學鍍膜機
紅外線夜視鏡鏡頭
本中心以離子源輔助電子束蒸鍍技術為基礎，開發多層薄膜製鍍系統，此系統包含兩組電子束蒸鍍源 (10 kV)、高能量離子源、高真空冷凍幫浦系統、精密廣波域光學監控器 (350 nm – 1100 nm) 及高層數多層膜自動控制鍍膜功能。此外，更運用離子源輔助技術，在抗熱性較差的塑膠基板上進行薄膜沉積，開發軟性電子薄膜製程技術。
技術能量
- 高真空蒸鍍系統設計組裝
- 離子源輔助電子束薄膜製鍍技術
- 各式光學元件薄膜設計與製鍍：金屬反射膜、抗反射膜、高反射膜、帶通濾光片、雙色濾光片、分光鏡、冷鏡、熱鏡、裝飾膜等
- 低溫薄膜製鍍技術
規格
- 可程式化自動控制蒸鍍製程，最高監控膜厚 ≥ 99 層
- 監控波長範圍 350 nm – 1100 nm
- 可適用 λ/4 系及非 λ/4 系薄膜設計
應用領域
- 半導體與光電產業等相關鍍膜產業
- 真空系統與鍍膜製程設備產業
- 光學系統關鍵零組件
精密光學鍍膜機
各式光學系統關鍵零組件
