精密光學薄膜設備與製程開發
CMOS 影像偵測器開發
精密光學鍍膜機
MSF 元件
開發目的
本系統為研發 CMOS 影像偵測器所需之五個不同波段太空級帶通濾光鏡 (multispectral filter, MSF)，考慮 MSF 元件之積集度，需應用黃光微影製程定義濾光片排列圖案之光阻結構，再將上述五種濾光鏡整合製鍍於微圖化 (micro-patterned) 基板上，受限於製程溫度影響甚鉅。採用低溫離子輔助蒸鍍製程將可有效控制薄膜製程溫度，並藉由高能離子源在鍍膜過程中提高成膜分子的動能，使薄膜於基板上之附著力和光學性質得到提升。
規格與特徵
利用電子鎗作多層膜之薄膜製程，輔以離子源助鍍，以光學監控系統搭配可程式化自動控制蒸鍍製程，精確控制膜厚，並模擬環境進行薄膜測試，以符合 CMOS 影像偵測器薄膜元件品質。
- 離子源輔助電子束鍍膜技術
- 廣波域光學監控技術
- 光學元件鍍膜技術
- 薄膜量測技術
應用
- 植被及國土變遷觀測儀 (Vegetation and Change Detection imager, VCDi) Band 1 – Band 9 濾光片
- 太空級 CMOS 影像感知器薄膜元件
高光譜儀帶通濾光片
CMOS 偵測器帶通濾光鏡 (B1 to B4)
計畫聯絡人
陳宏彬
E-mail: chbin@itrc.org.tw
