微奈米元件設備與製程技術開發
奈米球模板技術開發
開發目的
奈米球模板技術為成長奈米結構材料之重要製程,其原理係以自組裝奈米球作為模板,快速地製作大面積週期性奈米結構,結合真空鍍膜與微機電製程、可開發各種奈米顆粒陣列、奈米碳管與奈米微結構。
規格與特徵
本奈米球模板技術系統包括不同尺寸大小之奈米球鋪排,瞭解奈米球鋪排的製程參數 (如旋鍍速度、基板溫度與清洗方式) 對奈米球鋪排之影響。利用奈米球間隙之特性及配合真空鍍膜技術與微機電製程,建立週期性排列之奈米微結構。
- 奈米球尺寸: 200、400、600、1000 及 2000 nm
- 奈米顆粒陣列:Pt、Au、Ni、FePt,尺寸: ~100 nm
- 奈米蜂窩結構:Fe2O3、NiO、ZnO,高度:< 20 nm
應用
- 光學元件:光子晶體、生醫元件、非線性光學元件
- 奈米元件:奈米場發射元件、奈米碳管、平面顯示器
- 磁性元件:高記錄密度媒體

NiO 奈米蜂窩結構圖

Fe2O3 奈米蜂窩結構圖

多層奈米球擇區鋪排圖

FePt 磁性奈米顆粒陣列圖
計畫聯絡人
李昭德
E-mail: tigerlee@itrc.org.tw